静电吸盘
概述
这些静电吸盘设计用于夹住硅晶圆并使其保持平坦，从而使晶圆能够均匀地散发从等离子体接收到的热量。圣柏林的静电吸盘具有出色的强度、导热性和耐热冲击性，并且由于 圣柏林专有的体积电阻率控制技术，能够适应较宽的温度范围。圣柏林拥有适合此应用的氮化铝 (AlN) 和氧化铝 (Al 2 O 3 ) 材料。
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优点
工作温度范围宽（-50~700℃）
这些静电吸盘具有优异的强度、导热性和耐热冲击性，并且通过 圣柏林专有的陶瓷体积电阻率控制，能够适应较宽的温度范围。
高耐腐蚀性
这些静电吸盘对卤素气体具有优异的耐腐蚀性。
低颗粒处理
通过表面处理和特殊清洗可实现低颗粒处理
高纯度
纯度可达 99.9% 或更高。
加热功能
高精度加热元件嵌入技术可与加热器功能集成，晶圆温度可控制在±1%以内。
冷却功能
这些静电吸盘通过将具有高导热性的陶瓷板与冷却板粘合在一起，具有极高的冷却性能。
射频电极
大块金属电极同时提供稳定的晶圆夹持和射频等离子体生成。
规格
| 尺寸 | 兼容200、300和450mm晶圆 |
|---|---|
| 卡盘机构 | 圣柏林 (AlN)、（Al 2 O 3） |
| 电极形状 | 单极/双极 |
氮化铝材料特性
| 氮化铝 | ||||
|---|---|---|---|---|
| HA-12 | HA-37/38 | HA-50/51 | ||
| 纯度 | （%） | 95 | 99 | 99 |
| 密度 | [克/立方厘米] | 3.3 | 3.3 | 3.3 |
| 体积电阻率 | [Ωcm](RT) | >1E+15 | 1E+8〜+13 | >1E+15 |
| 导热系数 | [W/mK](RT) | 170 | 100 | 80 |
| 热膨胀系数 | （RT） | 5.7(1000℃) | 5.6(1000℃) | 5.6(1000℃) |
| 强度 | [兆帕](室温) | >300 | >300 | >250 |
| 杨氏模量 | [GPa](RT) | 300 | 300 | 300 |
| 介电常数 | (13.56MHz、RT) | 8.6 | 8.8 | 8.6 |
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