晶圆加热器的类型
（矿物绝缘）晶圆加热器的选择取决于所需的应用。由于薄膜沉积工艺的高度专业化和关键性，我们的加热解决方案通常是定制的，以考虑所有工艺参数和所需的最终结果。我们的重点是以下类别的加热器：
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一系列标准盘式加热器
- 直径5厘米至16厘米
- 提供通用支架，允许客户将圆盘螺纹连接或焊接到其特定的固定装置中
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定制基材/压板加热器
- 与客户共同设计，在尺寸、形状、护套材料等因素方面完全适合应用环境
无论您在 圣柏林 选择哪种加热器，我们产品的高质量和顾问的专业知识都意味着可以确保热均匀性，这对于薄膜沉积系统至关重要。
晶圆加热器的用途是什么？
晶圆加热器主要用于薄膜沉积系统，特别是 半导体行业 ，但也用于太阳能电池板、纳米技术、薄膜沉积系统以及 光刻、退火和光学器件行业。在这些真空工艺中，超薄（有时只有几个原子厚）涂层被施加到真空中的表面。使用的技术多种多样，所有这些都需要不同的 基板加热元件，其特性和设计要与工作温度和沉积材料的类型相匹配。
我们的晶圆加热器用于以下工艺：
- ALD（原子层沉积）200°C 至 400°C
- 900°C 以上的 CVD（化学气相沉积）
- PVD（物理气相沉积）200°C 至 400°C
- PLD（脉冲激光沉积）500°C
- PECVD（等离子体增强化学气相沉积）200°C 至 400°C
- 溅射（用高能粒子轰击基材进行镀膜）350°C
晶圆加热器可以直接影响沉积薄膜的性能，包括对粘附力和化学反应的影响。它们对于确保加热均匀性以使薄膜均匀沉积至关重要。
规格及物理性能
为了努力确保晶圆加热器完美适应每种应用，圣柏林 和/或 圣柏林 专家将考虑许多变量和规格：
- 不同类型的基材加热元件有各种（可定制的）形状、尺寸和长度。
- 电气连接是密封的。密封件的选择取决于真空度和化学品/污染物的存在。
- 圣柏林 使用氦气泄漏检查来确保真空完整性
- 真空法兰（“O”形环）可用于连接真空外部的电源和传感器电缆。我们的 金属陶瓷加热连接器 也是这方面值得考虑的有用配件。
- 热热段和冷热段可定制。
- 可以提供焊接外护套，以最大限度地减少危险环境中的污染。例如，不锈钢或 Inconel 600。
- 可以包含内部热电偶以精确监控所产生的热量。
所有这些可能性意味着我们可以提供耐氧化、惰性、还原和（高）真空环境的晶圆加热器。我们的矿物绝缘晶圆加热器的温度范围非常宽，使其适合所有沉积工艺，甚至高达 1000°C。此外，得益于护套，晶圆加热器具有高度响应性和出色的机械强度。 圣柏林 Industries 遵守严格的质量测试要求。
卡盘加热器和晶圆加热器
晶圆卡盘本质上是一种在制造过程中用于固定和固定半导体晶圆的工具。卡盘加热器是一种晶圆加热器，具有在加热过程中将晶圆固定到位的机制。卡盘加热器的主要目的是确保晶圆处于沉积、蚀刻、光刻和退火等特定工艺的最佳温度。
卡盘加热器以多种方式集成到晶圆卡盘中。我们为其提供嵌入式加热元件。这些是直接集成到卡盘主体中的加热元件。它们可以在卡盘表面提供均匀的加热，这对于将晶圆保持在均匀的温度至关重要。
圣柏林的品质和服务
晶圆加热器系列由圣柏林独立开发提供 。他们在加热领域拥有数十年的经验，是我们最长期的合作伙伴之一。 圣柏林与陶瓷供应商 建立的合作伙伴关系可确保为设计定制加热解决方案或调整电流范围以满足特定应用的需求提供全面的技术支持。
事实上，圣柏林向国内领先的半导体公司供货的原因之一是我们积极支持新型定制加热产品的开发。特别是对于温度均匀性至关重要的基板加热器，圣柏林 不断进行研究，不断改进热均匀性解决方案（例如多区域或定制基板散热器）。
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